?ITO靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及其對我國觸控面板產(chǎn)業(yè)的影響。如何燒制是個問題,而燒結(jié)大尺寸的ITO靶材就意味著需要大型的爐子。首先需要把氧化銦和氧化錫粉末按嚴(yán)格的比例混合,然后生產(chǎn)加工成地板磚的形狀,1700攝氏度的高溫?zé),形成的黑灰色陶瓷半?dǎo)體就是ITO靶材。 全球銦的保有量只有1.6萬噸,中國的銦保有量約1萬噸,到62%。接下來是秘魯?shù)?80噸、加拿大的560噸、美國的450噸,分別占全球保有量的
2024-08-29 面議/套真空鍍膜機的發(fā)展相當(dāng)迅速,隨著生產(chǎn)率的提高,生產(chǎn)費用大大降低,已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。以卷繞式真空鍍膜機為例,剛開發(fā)時可鍍的薄膜基材寬度是150mm,目前已達(dá)2253mm;木硗驳木韽绞1000mm,卷繞速度750m/min。自動裝卸的半連續(xù)卷繞式真空鍍膜機鍍膜占整個周期的75%,操作只占25%。隨著計測技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計算機的應(yīng)用,卷繞式真空鍍膜機正向著高度自動化和高
2024-08-29 面議/套? ? ? 高溫納米陶瓷涂層是將復(fù)合稀土納米陶瓷漿料噴涂于金屬或者非金屬表面,經(jīng)干燥固化升溫后,星騁復(fù)合稀土納米陶瓷薄膜層,納米陶瓷層具有不錯的高溫穩(wěn)定性、抗腐蝕能力和硬度及非浸潤性的表面力學(xué)性能。高溫納米陶瓷材料涂層的作用機理如下:(1)致密的陶瓷薄膜隔絕了基質(zhì)與外部環(huán)境的接觸,同時發(fā)揮了納米陶瓷層的舒緩反應(yīng)性,耐高溫腐蝕、耐磨損等性能,附著在基材表面,一體提升基材性能和可靠性,有效防止基材的氧
2024-08-29 面議/套旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶(NbOxSputteringTarget)主要用于光學(xué)玻璃、平面顯示行業(yè)、建筑玻璃鍍膜行業(yè)、薄膜光伏太陽能電池電較膜系等,可生產(chǎn)狗骨型,或按客戶要求定制靶材。在半導(dǎo)體材料行業(yè)中,國產(chǎn)靶材替代國外靶材已經(jīng)嶄露頭角,呈現(xiàn)定點打破局面,正是需要社會資金大力投入奮力追趕之關(guān)鍵時刻。價格也昂貴,這方面的要求明顯高于平面顯示器、太陽能電池等其他應(yīng)用領(lǐng)域。在硅片的正面和背面制造非常精細(xì)的電路,將光
2024-08-27 面議/套大部分國家應(yīng)用于筆記型計算機及平板計算機的觸控面板模塊產(chǎn)值估計將達(dá)到57億美元,年增長率將超30%。觸控面板的產(chǎn)業(yè)鏈很長,主要包括AMOLED、玻璃基板、玻璃硬化、薄膜基材、驅(qū)動IC、ITO靶材、ITO膜、玻璃傳感器、薄膜傳感器、玻璃模組、薄膜模組等子行業(yè)。濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展,較大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。 半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬濺射靶材,主要種類包括:銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢
2024-08-27 面議/套鋁釹靶材主要是用于平面顯示器、觸摸屏的玻璃基板電極層的鍍膜。目前主要是 用真空熔煉和熱壓燒結(jié)方法研發(fā)和生產(chǎn)小尺寸平面靶,大尺寸靶是通過小尺寸拼接形成。 由于不是一體化(需要拼接)容易產(chǎn)生電弧放電,因此成膜質(zhì)量差,難以真實應(yīng)用到高質(zhì)量 的顯示屏、觸摸屏上。盡管,人們已經(jīng)采用真空熔煉生產(chǎn)空心鋁釹靶靶管,并通過銦焊綁定 到不銹鋼背管上生產(chǎn)鋁釹旋轉(zhuǎn)靶材。由于銦焊料昂貴(占整個靶材成本50% )導(dǎo)致鋁釹 旋
2024-08-27 0濺射靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中,在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)。高純靶材主要用于對材料純度、穩(wěn)定性要求更高的領(lǐng)域,像集成電路、平板顯示器、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等行業(yè)。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的要求是比較高的,要求靶材純度很高,一般在5N(99.999%)以上。隨著電子
2024-08-27 面議/套? 鈦鋁合金靶材主要用于五金裝飾的耐磨、耐腐蝕硬膜,LOW-E鍍膜玻璃,半導(dǎo)體電子加工尺寸:長度:4000MM厚度:6-10MM,直型、狗骨型,對于貨品靶材,若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進(jìn)行處理,將會是對稀貴材料的較大浪費;同時,靶材從原材料到加工成成品,成材率一般只有40%-80%,大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對于貨品靶材,由于材料價格昂貴,迫切需要對加工過程的余料殘屑的提純再利用及對殘
2024-08-27 面議/條靶材如何應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)?半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬靶材,主要種類包括:鉭、銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純靶材,以及鎳鉑、鎢鈦等合金類的靶材。濺射靶材種類繁多,就ITO導(dǎo)電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶等三種以上。濺射靶材根據(jù)材料可分為金屬材料(純金屬鋁/鈦/銅/鉭等)、合金材料(鎳鉻/鎳鈷合金等)、無機非金屬(陶瓷化合物:氧化物/硅化物/碳化物等)、濺射靶材種類繁多,就ITO導(dǎo)電玻璃中使用硅靶.鋁靶.鈮靶
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