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高純鋁靶材,鋁合金靶材,鋁鎂合金靶
訂貨量(條)
價(jià)格(不含稅)
1
7800.00元/條
供應(yīng)標(biāo)題:高純鋁靶材,鋁合金靶材,鋁鎂合金靶
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點(diǎn):廣東 廣州 花都區(qū)
發(fā)布時(shí)間:2024年08月07日
有效期至:2025年02月07日
在線(xiàn)詢(xún)盤(pán):在線(xiàn)詢(xún)盤(pán)
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計(jì)算
- :43989
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基本信息
非常高純鋁濺射靶基材為非常高純鋁靶材的金屬原材料。電子濺射靶材可以分為半導(dǎo)體靶材、鍍膜玻璃靶材、太陽(yáng)能光伏靶材、裝飾鍍靶材等。材質(zhì):Si、Al規(guī)格:可以按照用戶(hù)需要定制。汽車(chē)玻璃)工業(yè)等行業(yè)。在半導(dǎo)體集成電路制造過(guò)程中,以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線(xiàn):在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中,各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展,有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造;在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中,磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加,新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來(lái)越高的要求。需求數(shù)量也逐年增加。國(guó)內(nèi)靶材顯示市場(chǎng)預(yù)測(cè)國(guó)內(nèi)靶材磁記錄市場(chǎng)預(yù)測(cè)年中國(guó)靶材行業(yè)發(fā)展研究分析與市場(chǎng)前景預(yù)測(cè)報(bào)告對(duì)我國(guó)靶材行業(yè)現(xiàn)狀、發(fā)展變化、競(jìng)爭(zhēng)格局等情況進(jìn)行深入的調(diào)研分析。
真空鍍膜機(jī)在鍍膜的時(shí)候,需要鍍層表面的化學(xué)成分保持均勻性,厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看也就是1/10波長(zhǎng)作為單位,約為100A,真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi),也就是說(shuō)對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō),真空鍍膜沒(méi)有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說(shuō)要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。
化學(xué)組分上的均勻性:就是說(shuō)在薄膜中,化合物的原子組分會(huì)由于尺度過(guò)小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過(guò)程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例。鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。晶格有序度的均勻性:這決定了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題。
廣州市尤特新材料有限公司基本信息
公司網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn
高純鋁靶材,鋁合金靶材,鋁鎂合金靶
產(chǎn)品屬性:
計(jì)量單位:條 供貨總量:9999 最小起訂量:1 產(chǎn)品單價(jià):7800.00 品牌: 規(guī)格型號(hào): 包裝說(shuō)明: