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錫管靶,高純錫靶,銦錫合金靶,旋轉(zhuǎn)錫靶
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7900.00元/套
供應(yīng)標(biāo)題:錫管靶,高純錫靶,銦錫合金靶,旋轉(zhuǎn)錫靶
價(jià)格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點(diǎn):廣東 廣州 花都區(qū)
發(fā)布時(shí)間:2024年07月15日
有效期至:2025年01月15日
在線詢盤:在線詢盤
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計(jì)算
基本信息
濺射準(zhǔn)備保持真空腔體尤其是濺射系統(tǒng)潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會收集水氣及其他污染物,需要進(jìn)行高溫帖合的條件下,無氧化銅容易被氧化和發(fā)生翹曲,所以會使用金屬鉬為背靶材料或某些靶材如陶瓷甚至某些金屬靶材的熱膨脹系數(shù)無法與無氧銅匹配,同樣也需要使用金用。靶材進(jìn)行預(yù)濺射時(shí)建議慢慢加大濺射功率,陶瓷類靶材的功率加大速率建議為1.5W小時(shí)/平方厘米。金屬類靶材的預(yù)濺射速度可以比陶瓷靶材塊,一個(gè)合理的功率加大速率為清潔。四步在清除完有污垢的區(qū)域后,再用高壓低水氣的氬氣沖洗靶材,以除去所有可能在濺射系統(tǒng)中會造成起弧的雜質(zhì)微粒。噴涂設(shè)備。
使用氧化鈮粉體和少量金屬Nb,用等離子體噴涂實(shí)現(xiàn)了工業(yè)化制備旋轉(zhuǎn)氧化鈮靶材。結(jié)果表明,球磨Fe(Al)合金粉末具有精細(xì)的層狀結(jié)構(gòu)。2018年,中國超過韓國成為大部分國家大的LCD生產(chǎn)大國;2019年,韓國宣布繼續(xù)減少LCD產(chǎn)能轉(zhuǎn)戰(zhàn)OLED市場,中國持續(xù)布局OLED。示器、導(dǎo)電玻璃以及太陽能電池等。ITO靶材成形的工藝有冷靜壓成。ITO/Si異質(zhì)結(jié)光電器件與p-n結(jié)光電池比較具有工藝簡單,轉(zhuǎn)換效率高等特點(diǎn).ITO是In_2O_3與SnO_2按一定比例的混合物.用電阻加熱真空蒸發(fā)法制備,避免了環(huán)境沾污,得到的特性較好.ITO有著多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導(dǎo)體Si上形成勢壘作為SIS結(jié)的一層以及抗反射層。
UVTM靶材事業(yè)部在2007年成立,致力于生產(chǎn)高品質(zhì)的磁控濺射靶材,公司擁有粉末冶金、冶煉澆注、3D噴涂、冷等靜壓等多套靶材制備設(shè)備和工藝技術(shù)。主要生產(chǎn)銷售陶瓷靶材(ITO靶材、AZO靶材、氧化鈮靶材等)、金屬靶材(高純銀靶、鈮靶、銅靶等)和合金靶材(鎳鉻合合金靶、銀銅合金靶、銅鋅合金靶等),產(chǎn)品遠(yuǎn)銷20多個(gè)國家和地區(qū)。濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高,一般要求如,尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制;較高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與籌備均勻性等。濺射鍍膜和蒸發(fā)鍍膜的對比:濺射鍍膜工藝可重復(fù)性好、膜厚可控制,可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜。
5G時(shí)候手機(jī)后蓋去金屬化,然而不管是玻璃、陶瓷、塑膠材質(zhì)的手機(jī)外觀結(jié)構(gòu)件,F(xiàn)設(shè)計(jì)師們都會考慮酷炫紋理、金屬質(zhì)感、亮銀色、陶瓷光澤、漸變色等效果,而這些良好的裝飾效果都離不開PVD真空鍍膜。金屬中框也需要和后蓋保持同樣炫麗的外觀,iPhoneXS金色及太空灰色系列不銹鋼中框就是采用的PVD色彩工藝。UVTM靶材事業(yè)部在2007年成立,致力于生產(chǎn)高品質(zhì)的磁控濺射靶材,公司擁有粉末冶金、冶煉澆注、3D噴涂、冷等靜壓等多套靶材制備設(shè)備和工藝技術(shù)。主要生產(chǎn)銷售陶瓷靶材(ITO靶材、AZO靶材、氧化鈮靶材等)、金屬靶材(高純銀靶、鈮靶、銅靶等)和合金靶材(鎳鉻合合金靶、銀銅合金靶、銅鋅合金靶等),產(chǎn)品遠(yuǎn)銷20多個(gè)國家和地區(qū)。
隨著晶圓廠產(chǎn)能向中國轉(zhuǎn)移,半導(dǎo)體用靶材市場將達(dá)到1.5億美元。同比增長25%。日本日礦金屬、東曹公司,美國霍尼韋爾、普萊克斯公司。OLED市場占比提升到3.14%。2018年,平板顯示市場規(guī)模達(dá)到1.4億平米,增長率達(dá)到9.9%。以面積計(jì)算,2018年LCD面板占據(jù)平板顯示市場的.18%;OLED產(chǎn)品開始逐漸受到手機(jī)廠商青睞,在市場的占比從2016年的2.10%提升到2018年的3.82%。高清電視和智能手機(jī)驅(qū)動LCD和OLED穩(wěn)定增長。科技日報(bào):ITO靶材屬于35項(xiàng)卡脖子技術(shù)之一。UVTM掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后,實(shí)施極其嚴(yán)格的保密措施,限制技術(shù)擴(kuò)散,同時(shí)不斷進(jìn)行橫向擴(kuò)張和垂直整合,將業(yè)務(wù)觸角積極擴(kuò)展到濺射鍍膜的各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域。
UVTM的金屬靶材作為應(yīng)用于手機(jī)玻璃蓋板的重要靶材產(chǎn)品,已獲得多家手機(jī)玻璃蓋板生產(chǎn)客戶的認(rèn)可,并已實(shí)現(xiàn)批量供貨。在市場需求和政策鼓勵(lì)下,國內(nèi)半導(dǎo)體市場保持著平穩(wěn)較快發(fā)展,國內(nèi)半導(dǎo)體材料產(chǎn)業(yè)、靶材產(chǎn)業(yè)規(guī)模也日益擴(kuò)大,其增速高于大部分國家增速,在大部分國家市場中所占份額逐漸提升。得益于中國大陸晶圓廠建設(shè)的迅猛勢頭,中國已經(jīng)成為大部分國家具潛力的半導(dǎo)體材料新興市場。2016年國內(nèi)半導(dǎo)體用濺射靶材市場規(guī)模打破14億元,大部分國家半導(dǎo)體用濺射行業(yè)高層度研究靶材市場規(guī)模打破12億美元。我們預(yù)測,未來5年,國內(nèi)高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模年復(fù)合增長率可達(dá)到13%,總規(guī)模超過25億元。目前,霧度控制比較好的商業(yè)化TCO玻璃是AFG的PV-TCO玻璃。
非硅成本下降的關(guān)鍵。的異質(zhì)結(jié)組件采用半片 9BB的設(shè)計(jì),降低了銀漿的使用。長期以來大部分國家PVD鍍膜材料研制和生產(chǎn)主要集中于美國、日本和德國少數(shù)公司,產(chǎn)業(yè)集中度較高。大部分國家范圍內(nèi),日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、住友化學(xué)等資金實(shí)力雄厚、技術(shù)水平****、產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗(yàn)豐富的跨國公司居于大部分國家高純?yōu)R射靶材行業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)地位,屬于濺射靶材的傳統(tǒng)強(qiáng)勢企業(yè),占據(jù)大部分國家濺射靶材市場的絕大部分市場份額,主要著大部分國家濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。濮純靶材。俗稱黃金,是一種過渡金屬,金是延性及展性高的金屬。其化學(xué)性質(zhì)不活潑,是不活潑的金屬元素。物理性質(zhì)導(dǎo)熱系數(shù):320W/m.K蒸發(fā)溫度(°C):1,0熱膨脹系數(shù):14.2x10-6/K理論密度(g/cc):19.3比例:0.381蒸發(fā)源:W舟。氧化鈮靶材。
需要將化學(xué)提純和物理提純結(jié)合使用。在將金屬提純到相當(dāng)高的純度后,往往還需配比其他金屬元素才能投入使用,在這個(gè)過程中,需要經(jīng)過熔煉、合金化和鑄造等步驟:通過精煉高純金屬,去除氧氣、氮?dú)獾榷嘤鄽怏w;再加入少量合金元素,使其與高純金屬充分結(jié)合并均勻分布;后將其鑄造成沒有缺陷的錠材,滿足生產(chǎn)加工過程中對金屬成份、尺寸大小的要求。合金靶材:鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。陶瓷靶材ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶。
控制所述磁條在靶材上方從內(nèi)控制節(jié)點(diǎn)出發(fā)在靶材寬度方向上進(jìn)行周期性搖擺變速移動,在一個(gè)周期內(nèi),依次在第二外控制節(jié)點(diǎn)、外控制節(jié)點(diǎn)和第二內(nèi)控制節(jié)點(diǎn)進(jìn)行反向并終返回內(nèi)控制節(jié)點(diǎn)。進(jìn)一步地,所述內(nèi)加速和內(nèi)減速相同,且取值范圍為50~200ms。進(jìn)一步地,所述第二內(nèi)加速和第二內(nèi)減速相同,且取值范圍為50~200ms。磁控濺射。
半導(dǎo)體制造中磁控濺射工藝對于靶材及薄膜的高品質(zhì)要求,導(dǎo)致靶材的利用率較低,通常在30%以內(nèi)。特別是對于貨品靶材,若剩余下的高純殘靶若以普通廢料進(jìn)行處理,將會是對稀貴材料的較大浪費(fèi);同時(shí),靶材從原材料到加工成成品,成材率一般只有40%-80%,大量的余料和殘屑需要更新循環(huán)利用。對于貨品靶材,由于材料價(jià)格昂貴,迫切需要對加工過程的余料殘屑的提純再利用及對殘進(jìn)行回收加工增值服務(wù),有效增加材料利用效率和節(jié)約資源。尤特新材料,多年來致力于對貴重金屬材料的研發(fā)和生產(chǎn),擁有成熟的貨品靶材的循環(huán)回收利用的技術(shù)及設(shè)備,有效為客戶提高材料利用效率和節(jié)約資源。靶材的利用率達(dá)到70%以上,并成為等國際****的合格供應(yīng)商。
廣州市尤特新材料有限公司基本信息
錫管靶,高純錫靶,銦錫合金靶,旋轉(zhuǎn)錫靶
地區(qū):廣東 廣州 花都區(qū)
網(wǎng)址: http://UVTMCOM.glass.com.cn
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計(jì)量單位:套 供貨總量:9999 最小起訂量:1 產(chǎn)品單價(jià):7900.00 品牌: 規(guī)格型號: 包裝說明: