高純鎳鉻靶材 鎳鉻合金靶材 鎳鉻靶材成分比例 噴涂鎳鉻靶材

半導(dǎo)體是對(duì)靶材組成、結(jié)構(gòu)和性能要求級(jí)高的領(lǐng)域。中國(guó)半導(dǎo)體靶材市場(chǎng)增長(zhǎng)迅速。尤特新材主要產(chǎn)品為各種高純?yōu)R射靶材，包括鋁靶、鈦靶、鉭靶、鎢鈦靶等，這些產(chǎn)品主要應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路芯片、液晶面板、薄膜太陽(yáng)能電池制造的物理氣相沉積(PVD)工藝，用于制備電子薄膜材料。目前，公司產(chǎn)品主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示器及太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域。在超大規(guī)模集成電路用高純金屬靶材領(lǐng)域，公司成功打破美國(guó)、日本跨國(guó)公司的壟斷格局，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)電子材料行業(yè)的空白。公司已經(jīng)逐步建立了高品質(zhì)、高純度濺射靶材專業(yè)生產(chǎn)商的良好品牌形象。

ITO靶材成形的工藝有冷靜壓成。ITO/Si異質(zhì)結(jié)光電器件與p-n結(jié)光電池比較具有工藝簡(jiǎn)單,轉(zhuǎn)換效率高等特點(diǎn)。在靶材制造的過(guò)程中，需要經(jīng)歷粉末冶煉、粉末混合、壓制成型、氣氛燒結(jié)、塑性加工、熱處理、超聲探傷、機(jī)械加工、水切割、機(jī)械加工、金屬化、綁定、超聲、超聲清洗、檢驗(yàn)出貨。ITO有著多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導(dǎo)體Si上形成勢(shì)壘作為SIS結(jié)的一層以及抗反射層。銦是中國(guó)在儲(chǔ)量上占據(jù)優(yōu)勢(shì)的資源。磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射。其中直流濺射設(shè)備原理簡(jiǎn)單，在濺射金屬時(shí)，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。除可濺射導(dǎo)電材料外。也可濺射非導(dǎo)電的材料，同時(shí)還可進(jìn)行反應(yīng)濺射制備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。合金靶材。

磁控濺射技術(shù)是一種先進(jìn)的高質(zhì)量薄膜沉積手段。其工作原理為：電子在電場(chǎng)的作用下加速飛向基片的過(guò)程中與濺射氣體原子發(fā)生碰撞，電離出大量的正離子和電子。電子飛向基片，而正離子在電場(chǎng)的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上終形成所需的薄膜。硅(Si)基濺射靶材是眾多濺射靶材中發(fā)展為迅速且應(yīng)用較廣的一種靶材。Si是一種傳統(tǒng)的半導(dǎo)體材料，近幾年由于磁控濺射制備薄膜技術(shù)的發(fā)展使得其在很多領(lǐng)域得到新的應(yīng)用。

目前磁控濺射沉積的硅基薄膜已經(jīng)應(yīng)用在觸摸傳感器、建筑節(jié)能用low-e玻璃，以及汽車鍍膜玻璃等領(lǐng)域。磁控濺射用硅鋁靶材一般通過(guò)等離子噴涂工藝制成，但所制得靶材致密度較低，相對(duì)密度只有90％左右。密度小的靶材在濺射過(guò)程中易出現(xiàn)結(jié)瘤、掉粉等缺陷，影響鍍膜產(chǎn)品的質(zhì)量和生產(chǎn)穩(wěn)定性。申請(qǐng)公布號(hào)1098350A的中國(guó)發(fā)明****申請(qǐng)：硅鋁濺射靶材的制備方法，公開了一種通過(guò)真空大氣等離子噴涂技術(shù)，制得相對(duì)密度達(dá)97％的硅鋁靶材。但該****中并未陳述其利用這種方法實(shí)際制備靶材的密度。并且真空等離子噴涂較大氣等離子噴涂，增加了背管預(yù)熱、抽真空、充入惰性保護(hù)氣體等一系列步驟，工藝復(fù)雜且成本較高。

在被濺射的靶(陰)與陽(yáng)之間加個(gè)正交磁場(chǎng)和電場(chǎng)，在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣)，在電場(chǎng)的作用下，Ar氣電離成正離子和電子， 靶上加有定的負(fù)高壓，從靶發(fā)出的電子受磁場(chǎng)的作用與工作氣體的電離幾率加大，在陰附近形成高密度的等離子體，Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶面， 以很高的速度轟擊靶面，使靶上被濺射出來(lái)的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離靶面飛向基片淀積成膜。

MINILED及MicLED是近年來(lái)顯示領(lǐng)域發(fā)展的新型顯示技術(shù)，廣泛應(yīng)用于VR、平板、電競(jìng)筆電、顯示器等領(lǐng)域。尤特新材料項(xiàng)目投資總額為2億元。HIT電池結(jié)構(gòu)，中間襯底為N型晶體硅，通過(guò)PECVD方法在P型a-Si和c-Si之間插入一層10nm厚的i-a-Si本征非晶硅，在形成pn結(jié)的同時(shí)。背面為20nm厚的本征a-Si：H和N型a-Si：H層，在鈍化表面的同時(shí)可以形成背表面場(chǎng)。由于非晶硅的導(dǎo)電性較差，射技術(shù)濺射TCO膜進(jìn)行橫向?qū)щ�，采用絲網(wǎng)印刷技術(shù)形成雙面電極，使得HIT電池有著對(duì)稱雙面電池結(jié)構(gòu)。對(duì)靶磁控濺射原理：1-N極；2-對(duì)靶陰極；3-陰極暗區(qū)；4-等離子體區(qū)；5-基體偏壓電源；6-基體；

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡(jiǎn)稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬(wàn)平方米。尤特是一家專注于時(shí)尚消費(fèi)電子產(chǎn)業(yè)、節(jié)能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開發(fā)和應(yīng)用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲(chǔ)記錄材料為起點(diǎn)，經(jīng)過(guò)10多年的開拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級(jí)，尤特的技術(shù)及應(yīng)用涉獵范圍逐步擴(kuò)大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲(chǔ)材料、導(dǎo)電散熱材料等。尤特一直倡導(dǎo)“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過(guò)《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認(rèn)證并有效運(yùn)行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標(biāo)準(zhǔn)；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認(rèn)證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng)新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機(jī)制，并承擔(dān)多項(xiàng)省市立項(xiàng)的科研項(xiàng)目，公司目前已擁有幾十項(xiàng)自主研發(fā)新興材料及工藝的知識(shí)產(chǎn)權(quán)，是廣州市扶持科技型要點(diǎn)培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機(jī)構(gòu)的授予多個(gè)榮譽(yù)：如“國(guó)家生產(chǎn)力促進(jìn)獎(jiǎng)、國(guó)家有名商標(biāo)、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責(zé)任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)化達(dá)標(biāo)企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽(yù)。尤特全體同仁秉承“創(chuàng)造價(jià)值，分享價(jià)值“的核心價(jià)值觀，借鑒以往成功管理運(yùn)營(yíng)經(jīng)驗(yàn)，持續(xù)深挖磁控濺射鍍膜材料下游應(yīng)用市場(chǎng)，不斷拓寬市場(chǎng)應(yīng)用領(lǐng)域，做優(yōu)做強(qiáng)鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

地區(qū)：廣東 廣州 花都區(qū)
網(wǎng)址: http://UVTMCOM.glass.com.cn

產(chǎn)品屬性：
計(jì)量單位：套 供貨總量：9999 最小起訂量：1 產(chǎn)品單價(jià)：2060.00 品牌： 規(guī)格型號(hào)： 包裝說(shuō)明：