鎳鉻管靶 高純鎳鉻靶材 NiCr靶材 鎳鉻合金靶材 鎳鉻靶材成分比例

一種高致密度的硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法，它具有工藝簡單、所制備的靶材品質(zhì)較佳的特點。本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：高致密度的硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法，包括以下步驟：(1)制備噴涂粉末；(2)預處理靶材背管；(3)對靶材背管噴涂打底層；(4)用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材。所述步驟(1)中，制備噴涂粉末的方法為：以質(zhì)量百分比計，將90％-92％的硅粉與8％-10％的鋁粉混合后，在V型混粉機中均勻混粉4-6小時，然后在90—110°的烘干箱中烘干4-6小時。所述硅粉純度不低于99.9％，該硅粉中，以質(zhì)量百分比計，20％-50％的硅粉的粒度為125-160μm，其余硅粉粒度為45-125μm。所述鋁粉純度不低于99.9％、粒度為75-100μm。

所述步驟(2)中，預處理靶材背管的方法為：超聲波清洗，然后噴砂粗化。所述步驟(3)中，對靶材背管噴涂打底層為：采用電弧噴涂法在靶材背管表面噴涂鎳鋁合金。所述步驟(4)中，用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材的過程中，噴涂工裝的主軸轉(zhuǎn)速為200-240r/min，噴槍與背管間的噴涂距離控制為100-130mm，噴****移動速度為2000—2400mm/min。所述步驟(4)中，用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材的過程中，控制靶材表面溫度不超過90℃。本發(fā)明和現(xiàn)有技術(shù)相比所具有的優(yōu)點是：工藝簡單、所制備的靶材品質(zhì)較佳。本發(fā)明的高致密度的硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法所制備的靶材結(jié)構(gòu)致密、成分均勻、導電性好、無裂紋。

其噴涂長度和直徑不受限制，厚度可達13mm，相對密度不低于93％，且本發(fā)明提供的制備方法，生產(chǎn)過程簡單便捷，成本較低。具體實施方式實施例1高致密度的硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法，具體為在外徑133mm，長度850mm的靶材背管上，噴涂不低于4mm厚的硅鋁靶材。包括以下步驟：(1)制備噴涂粉末；(2)預處理靶材背管；(3)對靶材背管噴涂打底層；(4)用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材。其中：步驟(1)中，制備噴涂粉末的方法為：以質(zhì)量百分比計，將90％的硅粉與10％的鋁粉混合后，在V型混粉機中均勻混粉4小時，然后在90°的烘干箱中烘干4小時。同時，采用的硅粉純度不低于99.9％。該硅粉中，以質(zhì)量百分比計。

20％的硅粉的平均粒度為125μm，其余硅粉的平均粒度為45μm。鋁粉純度不低于99.9％、平均粒度為75μm。步驟(2)中，預處理靶材背管的方法為：將硅鋁靶材在超聲波清洗機中超聲波清洗40分鐘，然后噴砂粗化。步驟(3)中，對靶材背管噴涂打底層為：采用電弧噴涂法在靶材背管表面噴涂厚度為0.1mm鎳鋁合金。電弧噴涂的具體工藝參數(shù)可以見表表1電弧噴涂打底層的工藝參數(shù)工藝參數(shù)電壓電流絲材直徑送絲速度噴涂壓力參數(shù)值40V350A2.5mm130mm/s0.5MPa步驟(4)中，用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材的過程中，噴涂工裝的主軸轉(zhuǎn)速為200r/min，噴槍與背管間的噴涂距離控制為100mm。

噴****移動速度為2000mm/min。步驟(4)中，用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材的過程中，控制靶材表面溫度不超過90℃。比如，綜合運用水冷管與****冷卻噴涂靶材。本實施例1制備的硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材為黑色，厚度4.2mm，用阿基米德排水法檢測密度為2.201g/cm3，相對密度為93.3％，電阻率為11.7mΩ.cm，說明其結(jié)構(gòu)致密、導電性較好，且檢測無裂紋。同時，與真空等離子噴涂等方式比較，本實施例的制備方法無需進行抽真空、充保護氣體等步驟，從而成本較低、生產(chǎn)過程簡單便捷。本實施例引入在V型機中進行混粉的步驟，確保產(chǎn)品成分較為均勻。實施例2高致密度的硅鋁旋轉(zhuǎn)靶材的制備方法，具體為在外徑133mm。

長度3191mm的靶材背管上，噴涂不低于9mm厚的硅鋁靶材。包括以下步驟：(1)制備噴涂粉末；(2)預處理靶材背管；(3)對靶材背管噴涂打底層；(4)用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材。其中：步驟(1)中，制備噴涂粉末的方法為：以質(zhì)量百分比計，將91％的硅粉與9％的鋁粉混合后，在V型混粉機中均勻混粉5小時，然后在100°的烘干箱中烘干5小時。同時，采用的硅粉純度不低于99.9％。該硅粉中，以質(zhì)量百分比計，35％的硅粉的平均粒度為135μm，其余硅粉平均粒度為80μm。鋁粉純度不低于99.9％、平均粒度為80μm。步驟(2)中，預處理靶材背管的方法為：將硅鋁靶材在超聲波清洗機中超聲波清洗30分鐘。

然后噴砂粗化。步驟(3)中，對靶材背管噴涂打底層為：采用電弧噴涂法在靶材背管表面噴涂厚度為0.2mm鎳鋁合金。電弧噴涂的具體工藝參數(shù)可以見表表2電弧噴涂打底層的工藝參數(shù)工藝參數(shù)電壓電流絲材直徑送絲速度噴涂壓力參數(shù)值40V370A2.5mm150mm/s0.5MPa步驟(4)中，用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材的過程中，噴涂工裝的主軸轉(zhuǎn)速為230r/min，噴涂距離110mm，噴****移動速度為2200mm/min，步驟(4)中，用等離子噴涂工藝在靶材背管上制備硅鋁靶材的過程中，控制靶材表面溫度不超過90℃。比如，綜合運用水冷管與****冷卻噴涂靶材。

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