高純銅合金靶 旋轉銅鋅靶材UVTM 銅合金靶材 銅背板

陶瓷靶材分為化合物陶瓷靶材和氧化物靶材，產品包含氧化物、氟化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、硒化物、碲化物、磷化物以及各類混合摻雜物，純度99.5%-99.999%，適合磁控濺射鍍、熱蒸鍍、電子束蒸鍍，產品廣泛應用于各類半導體行業(yè)、太陽能光伏光熱行業(yè)、建筑、裝飾、汽車、平面顯示、LCD、LED、集成電路，元器件、磁記錄、裝飾、工具鍍膜、航空航天、科研等領域。

一種鉬鈮合金靶材，其包括如下質量份的原料組分：鉬45-89.1份、鈮5-9.9份、以及金屬氧化物1-50份；其中，所述金屬氧化物選自氧化鋁和氧化鋅中的至少一種。上述鉬鈮合金靶材的原料組分配比合理，在傳統(tǒng)的鉬鈮合金靶材的基礎上，添加至少一種上述金屬氧化物。鉬鈮合金靶材終制得的黑化膜可以減少或消除電子產品表面的反射光，增加透光量，減少雜散光吸收，從而提升視覺體驗，對眼睛起到保護作用。平面轉管狀：多年來，鍍膜設備主要使用平面陰較，要求平面靶材與之配套。雖然人們通過設計移動磁場等方式來提高平面靶材的利用率，但目前，平面靶材的利用率較高也只能達到40%左右。

AluminumZincOde)等，純度要求一般在99.99%以上，其中，鋁靶、銅靶用于導電層薄膜。2017年公司濺射靶材、蒸鍍材料、其他產品的營收占比分別為78.36%、18.4%、3.24%。公司營業(yè)收入逐年增長，毛利率和凈利率保持高位，盈利能力穩(wěn)健提升。年，公司營業(yè)收入分別為0.83億元、1.24億元、1.75億元、2.36億元，年均復合增長率為41.86%。2017年1-9月，毛利率均超過35%，凈利率20%左右，較高的毛利率凈利率體現(xiàn)了公司產品的技術含量的市場競爭力，同時表明了公司產品具有較強的盈利能力，有利于公司未來的可持續(xù)發(fā)展。特別是ITO靶材市場發(fā)展緩慢，致使中國銦大量出口。

純度大于5N，且致密度大于99％。按使用的原材料材質不同，濺射靶材可分為金屬/非金屬單質靶材、合金靶材、化合物靶材等。濺射鍍膜工藝可重復性好、膜厚可控制，可在大面積基板材料上獲得厚度均勻的薄膜，所制備的薄膜具有純度高、致密性好、與基板材料的結合力強等優(yōu)點，已成為制備薄膜材料的主要技術之一，各種類型的濺射薄膜材料已得到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有高附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為目前市場應用量大的PVD鍍膜材料。從市場前景來看，薄膜太陽能電池在光伏建筑一體化、大規(guī)模低成本發(fā)電站建設等方面比傳統(tǒng)的晶體硅太陽能電池具有更加廣闊的市場空間�，F(xiàn)今制備太陽能電池用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶(氧化鋁鋅)。

硅的原子結構決定了硅原子具有一定的導電性，但由于硅晶體中沒有明顯的自由電子，因此導電率不及金屬，且隨溫度升高而增加，因而具有半導體性質。微電子領域對靶材濺射薄膜的品質和電阻要求是相當苛刻的。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結構。電阻率是硅靶材產品的重要參數(shù)之一，除特殊用途外，絕大多數(shù)硅靶材電阻率要求越低越好，開始應用時電阻率要求在0.1-0.5Ω·cm范圍內，逐漸降低至小于0.1Ω·cm，目前標準電阻率為0.02-0.04Ω·cm。為克服現(xiàn)有技術的不足，UVTM的研發(fā)人員開發(fā)了一種超低阻硅靶材，在硅材料中摻入處理過的高硼含量母合金，使硅靶材的電阻率小于0.01Ω·cm。

這也是其一大優(yōu)點。靶中毒的物理解釋，一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導通能力。或者鈦鋁硅靶沉積的薄膜。3.4水晶鍍膜系列靶材水晶飾品，燈飾等鍍膜量這幾年增長很快，主要集中在中山古鎮(zhèn)和義烏浦江為主。古鎮(zhèn)是以燈飾水晶鍍膜為主有大小企業(yè)幾十家。浙江義烏以水晶飾品為主。大多采用匯成真空電弧加磁控鍍膜設備。主要有干邑色，琥珀色，酒紅色，AB彩，玫紅色，金顏色，墨綠色，豬肝色等。水晶鍍膜琥珀色。鉬靶材主要用于平面顯示行業(yè)，屬于鉬金屬制品生產鏈頂端產品，技術含量高、生產難度大。UVTM自主研發(fā)、生產出具有完全知識產權的4.5代、5.0代、5.5代靶材。產品規(guī)格一次一次刷新紀錄。

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