東莞旋轉靶材,噴涂靶材,旋轉靶材,噴涂靶材廠家

鋁銅合金靶材(Al-Cu),鋁鉻合金靶材(Al-Cr),鋁鎂合金靶材(Al-Mg),鋁硅合金靶材(Al-Si),鋁銀合金靶材(Al-Ag) ,銅鎵合金靶材(Cu-Ga),銅銦合金靶材 (CuIn),銅鎳合金靶材 (Cu-Ni),銥錳合金(Ir-Mn),鎳鉻合金靶材 (Ni-Cr),鎳鈮鈦合金靶材 (NiNbTi) ,鎳鈦合金靶材 (Ni-Ti),鎳釩合金靶材 (Ni-V)旋轉靶材。鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)相關信息在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光****中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷應。

靶材的應用領域雖多，在顯示、信息存儲、太陽能電池、半導體四個領域，靶材的應用占比合計達到94%。迄今為止，Sn、Zn、Ti、Ni、Fe、Ta、不銹鋼、Ti6Al4V、高溫合金等。靶材在太陽能領域的巨大潛力，制備太陽能電池較為常用的濺射靶材包括鋁靶、銅靶、鉬靶、鉻靶以及ITO靶、AZO靶（氧化鋁鋅，AluminumZincOde）等，純度要求一般在99.99%以上，、銅靶用于導電層薄膜，鉬靶、鉻靶用于阻擋層薄膜，ITO靶、AZO靶用于透明導電層薄膜。隨著大部分國家太陽能光伏年度新增裝機容量呈現(xiàn)快速增長的態(tài)勢，發(fā)展。在提質增效的大背景下，異質結電池勢必成為個電池風口，以及更加便捷的薄膜電池也會應用廣泛。國內大的市場需求環(huán)境，將進一步推動國內靶材技術的創(chuàng)新進展。陽能電池等領域。靶材成本居高不下，是異質結電池產業(yè)化過程中的一個大阻礙。

真空鍍膜技術初現(xiàn)于20世紀30年代，四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應用，工業(yè)化大規(guī)模生產開始于20世紀80年代，在電子、宇航、包裝、裝潢、燙金印刷等工業(yè)中取得廣泛的應用。真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面(通常是非金屬材料)，屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。在所有被鍍材料中，以塑料為常見，其次，為紙張鍍膜。相對于金屬、陶瓷、木材等材料，塑料具有充足、性能易于調控、加工方便等優(yōu)勢，因此種類繁多的塑料或其他高分子材料作為工程裝飾性結構材料，大量應用于汽車、家電、日用包裝、工藝裝飾等工業(yè)領域。但塑料材料大多存在表面硬度不高、外觀不夠華麗、耐磨性低等缺陷，如在塑料表面蒸鍍一層極薄的金屬薄膜，即可賦予塑料程亮的金屬外觀，合適的金屬源還可大大增加材料表面耐磨性能，大大拓寬了塑料的裝飾性和應用范圍。

將ITO玻璃進行加工處理、經過鍍膜形成電極,其中兩種在直流磁控濺射制備ITO薄膜時，降低薄膜濺射電壓的有效途徑磁場強度對濺射電壓的影響當磁場強度為300G時，濺射電壓約為-350v；但當磁場強度升高到1000G時，濺射電壓下降至-250v左右。一般情況下，磁場強度越高、濺射電壓越低，但磁場強度為1000G以上時，磁場強度對濺射電壓的影響就不明顯了。因此為了降低ITO薄膜的濺射電壓，可以通過合理的增強濺射陰極的磁場強度來實現(xiàn)。為了有效地降低磁控濺射的電壓，以達到降低ITO薄膜電阻率的目的，可以采用一套特殊的濺射陰極結構和濺射直流電源，同時將一套3KW的射頻電源合理地匹配疊裝在一套6KW的直流電源上。在不同的直流濺射功率和射頻功率下進行降低ITO薄膜濺射電壓的工藝研究。

主營產品：濺射靶材,鍍膜靶材,金屬靶材,旋轉靶材,平面靶材,噴涂靶材,靶材,UV玻璃油墨 公司成立年份：2003
公司網址：http://UVTMCOM.glass.com.cn

地區(qū)：廣東 廣州 花都區(qū)
網址: http://UVTMCOM.glass.com.cn

產品屬性：
計量單位：套 供貨總量：9999 最小起訂量：1 產品單價：2050.00 品牌： 規(guī)格型號： 包裝說明：