清遠(yuǎn)濺射靶材 鋁合金濺射靶材 鋁合金靶材 濺射靶材

大部分國家半導(dǎo)體銷售額保持平穩(wěn)發(fā)展，大部分國家市場增速超預(yù)期，特別是存儲器市場，一方面，存儲芯片需求旺盛，產(chǎn)品價格大幅上漲，另一方面，在AI、智能駕駛、5G、VR/AR等需求持續(xù)帶動下，銷售額增速較快。2017~2020是晶圓廠投資的高峰期，大部分國家新增半導(dǎo)體產(chǎn)線六十多條，其中位于中國大數(shù)的42%。在這樣的產(chǎn)業(yè)背景下，大部分國家對于晶圓的需求量將不斷提升。據(jù)SEMI預(yù)測，未來兩年，大部分國家晶圓出貨量將從2017年的11448百萬平方英寸上升到2019年的12235百萬平方英寸.年復(fù)合增長率為3.38%。基于此，2018年大部分國家晶圓制造用靶材的市場增速可達(dá)19%，封測用靶材增速更高，將達(dá)到26%。我國國內(nèi)的靶材市場需求也會大幅增加。同時，隨著國內(nèi)濺射靶材技術(shù)的不斷成熟，再加上其先天的性價比優(yōu)勢。

ITO有著多種功用,首先ITO為高帶隙材料,可用作光電池的光入射窗口,又可作為收集光電流的電極,在基底半導(dǎo)體Si上形成勢壘作為SIS結(jié)的一層以及抗反射層。大部分國家的銦礦資源集中分布在中國、玻利維亞、俄羅斯等國。日韓美是重要的銦消費國,也是我國原生銦的主要****國。大部分國家高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模將超過160億美元，年復(fù)合增長率達(dá)13%。近年來，磁控濺射靶材是國家鼓勵和發(fā)展的新材料產(chǎn)業(yè)。對于ITO靶材，我國有銦資源優(yōu)勢，但是一直處于技術(shù)弱勢地位，國際高等ITO靶材由JX日礦日石金屬、日本三井礦業(yè)、日本東曹、韓國三星、德國及美國的少數(shù)幾家公司所壟斷。銦是中國在儲量上占據(jù)較好優(yōu)勢的資源。雖然國內(nèi)銦儲存量豐富。元器件及材料的生產(chǎn)對于貨品靶材面板顯示產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)環(huán)節(jié)。所使用的PVD鍍膜材料主要為濺射靶材，其性能如分辨率、透光率等都與濺射薄膜的性能密切相關(guān)。

氣體冷噴涂是一種增材制造工藝,其中金屬粉末被加速到超音速以粘附到材料表面。在眾多靶材制備技術(shù)中，熱噴涂技術(shù)可以快速、、大面積、大批量地制備氧化鈦靶材，且得到的靶材力學(xué)性能良好，噴涂成本較為低廉，因而使熱噴涂氧化鈦靶材的應(yīng)用更具前景。目前，制備氧化鈦靶材的常用方法主要有：溶膠凝膠法、絲網(wǎng)印刷法、噴霧熱分解法、化學(xué)氣相沉積、物理-氣相沉積、熱噴涂等。相比于上述幾種常用的靶材制備方法，熱噴涂方法具有沉積效率高，生產(chǎn)成本低，受基體限制小，可用于大規(guī)模的工業(yè)化生產(chǎn)等優(yōu)勢。其顯微硬度略高于LPPS和CGDS制備的Ti靶材。（3）SAPS制備的Ti靶材的沉積效率平均為52%，并選用粒徑范圍更小和球型度更好的粉末應(yīng)可進(jìn)一步提高沉積效率。

什么是靶中毒現(xiàn)象(1)正離子堆積：靶中毒時，靶面形成一層絕緣膜，正離子到達(dá)陰極靶面時由于絕緣層的阻擋，不能直接進(jìn)入陰極靶面，而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進(jìn)行下去。、（2）陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達(dá)陽極的電子無法進(jìn)入陽極，形成陽極消失現(xiàn)象。靶中毒的物理解釋（1）一般情況下，金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物，在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高了空間的導(dǎo)通能力磁控濺射一般分為二種：直流濺射和射頻濺射，其中直流濺射設(shè)備原理簡單，在濺射金屬時，其速率也快。而射頻濺射的使用范圍更為廣泛。

半導(dǎo)體材料主要分為晶圓制造材料和封裝材料，制造材料包括硅片（37%）、光刻膠、光刻膠配套試劑、濕電子化學(xué)品、電子氣體、CMP拋光材料、以及靶材等；（39%）、引線框架、樹脂、鍵合絲、錫球、以及電鍍液等。在國內(nèi)占據(jù)了大部分中等和要求不高的靶材市場份額。國內(nèi)靶材公司的發(fā)展趨勢如何？目前大部分國家高等靶材市場主要分布于韓國、中國、日本，主要供應(yīng)商在日本，韓國。中國市場目前年消耗ITO靶材約300噸，但處于快速增長之中日本企業(yè)在硅晶圓、合成半導(dǎo)體晶圓、光罩、光刻膠、靶材料、保護(hù)涂膜、引線架、陶瓷板、塑料板、TAB（捲帶式自動接合）、COF（薄膜復(fù)晶）、焊線、封裝材料等14種重要材料方面均占有50%以上的份額。

濺射靶材行業(yè)迅速增長,市場集中度較高PVD技術(shù)已成為目前主流鍍膜方法。國內(nèi)靶材生產(chǎn)企業(yè)發(fā)展迅速。濺射靶材為目前市場應(yīng)用量較大的PVD鍍膜材料。大部分國家濺射靶材市場未來穩(wěn)定增長,2020年將達(dá)200億美元。濺射靶材主要應(yīng)用在平板顯示、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。半導(dǎo)體是對靶材組成、結(jié)構(gòu)和性能要求較高的領(lǐng)域。電子靶材新材料：鉬鈀材、ITO靶材國產(chǎn)加速替代****。靶材主要用于PVD鍍膜，廣泛應(yīng)用于顯示、芯片、存儲、光伏和工業(yè)等領(lǐng)域。按照2020年國內(nèi)液晶面板產(chǎn)能，鉬靶材和ITO靶材需求分別為2,163噸和1,375噸，對應(yīng)市場分別為9.12億元和27.36元。鉬靶材已經(jīng)國產(chǎn)并大規(guī)模替代。ITO則仍高度依賴********。大部分國家靶材市場主要由日美公司所掌控,市場集中度較高。

廣州市尤特新材料有限公司（以下簡稱“尤特”），成立于2003年，位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節(jié)能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術(shù)開發(fā)和應(yīng)用的重要高新技術(shù)企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點，經(jīng)過10多年的開拓與發(fā)展，產(chǎn)業(yè)技術(shù)不斷迭代與升級，尤特的技術(shù)及應(yīng)用涉獵范圍逐步擴(kuò)大，其中主要包括：真空鍍膜靶材；環(huán)保（UV/水性）材料；觸控顯示材料；印刷技術(shù)及材料；信息存儲材料、導(dǎo)電散熱材料等。尤特一直倡導(dǎo)“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學(xué)體系管理，先后通過《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認(rèn)證并有效運行，產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標(biāo)準(zhǔn)；獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認(rèn)證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術(shù)創(chuàng)新，先后與"武漢大學(xué)"、"華南理工大學(xué)"、"中南大學(xué)"等高校、研究所建立"產(chǎn)學(xué)研"合作機(jī)制，并承擔(dān)多項省市立項的科研項目，公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權(quán)，是廣州市扶持科技型要點培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關(guān)機(jī)構(gòu)的授予多個榮譽：如“國家生產(chǎn)力促進(jìn)獎、國家有名商標(biāo)、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責(zé)任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)化達(dá)標(biāo)企業(yè)、廣州市工程技術(shù)研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創(chuàng)造價值，分享價值“的核心價值觀，借鑒以往成功管理運營經(jīng)驗，持續(xù)深挖磁控濺射鍍膜材料下游應(yīng)用市場，不斷拓寬市場應(yīng)用領(lǐng)域，做優(yōu)做強(qiáng)鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。

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