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高純鈮靶材,金屬鈮靶材,鈮靶材,金屬鈮管靶
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1900.00元/套
供應標題:高純鈮靶材,金屬鈮靶材,鈮靶材,金屬鈮管靶
價格:電儀
發(fā)布公司:廣州市尤特新材料有限公司
供貨總量:9999
聯(lián)系人:楊永添
發(fā)貨地點:廣東 廣州 花都區(qū)
發(fā)布時間:2024年08月29日
有效期至:2024年10月28日
在線詢盤:在線詢盤
產(chǎn)品綜合信息質(zhì)量:未計算
基本信息
中國集成電路材料現(xiàn)狀如何?靶材是薄膜制備的關鍵原料之一,半導體在靶材應用中約占10%。2016年靶材市場增速達到20%,2017年-2019年仍將保持復合增速13%,到2018年大部分國家靶材市場空間達到983億元,超越大部分國家金屬鈷和碳酸鋰合計941億元的市場,未來潛力巨大。高純金和高純銀因具有接觸電阻小,熱阻低,熱效應力小和可靠性高等優(yōu)點,其靶材材料廣泛應用于背面金屬化系統(tǒng)、汽車工業(yè)、高溫材料和生物醫(yī)學中。“半導體器件用鎳鉑靶材的制備關鍵技術及產(chǎn)業(yè)化”取得重大打破,建立了生產(chǎn)線并取得良好經(jīng)濟效益,鎳鉑靶材替代了****產(chǎn)品并遠銷海外。國內(nèi)靶材等半導體材料的帶領者企業(yè),實現(xiàn)了高純金屬、靶材一體化運營,在高純金屬、銅靶材、鈷靶材等產(chǎn)品上實現(xiàn)了技術打破。并成功進入到國外集成電路企業(yè)的供應鏈。
用高能粒子轟擊固體表面時能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面,沉積在基片上。濺射現(xiàn)象于1870年開始用于鍍膜技術,1930年以后由于提高了沉積速率而逐漸用于工業(yè)生產(chǎn)。常用的二極濺射設備如圖3[二極濺射示意圖]。通常將欲沉積的材料制成板材──靶,固定在陰極上。基片置于正對靶面的陽極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入 10~1帕的氣體(通常為氬氣),在陰極和陽極間加幾千伏電壓,兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場作用下飛向陰極,與靶表面原子碰撞,受碰撞從靶面逸出的靶原子稱為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。與蒸發(fā)鍍膜不同,濺射鍍膜不受膜材熔點的限制,可濺射W、Ta、C、Mo、WC、TiC等難熔物質(zhì)。
濺射化合物膜可用反應濺射法,即將反應氣體 (O、N、HS、CH等)加入Ar氣中,反應氣體及其離子與靶原子或濺射原子發(fā)生反應生成化合物(如氧化物、氮化物等)而沉積在基片上。沉積絕緣膜可采用高頻濺射法。基片裝在接地的電極上,絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地,一端通過匹配網(wǎng)絡和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后,高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負半周分別打到絕緣靶上。由于電子遷移率高于正離子,絕緣靶表面帶負電,在達到動態(tài)平衡時,靶處于負的偏置電位,從而使正離子對靶的濺射持續(xù)進行。采用磁控濺射可使沉積速率比非磁控濺射提高近一個數(shù)量級。
根據(jù)形狀可分為長靶,方靶,圓靶,異型靶根據(jù)成份可分為金屬靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材根據(jù)應用不同又分為半導體關聯(lián)陶瓷靶材、記錄介質(zhì)陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、導陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材等根據(jù)應用領域分為微電子靶材、磁記錄靶材、光碟靶材、貨品靶材、薄膜電阻靶材、導電膜靶材、表面改性靶材、光罩層靶材、裝飾層靶材、電極靶材、封裝靶材、其他靶材高純靶材。
近年來,中國大陸漸漸有些觸控面板廠商開始采用了非日東的大陸本土ITO薄膜產(chǎn)品,這些ITO薄膜價格非常便宜,能夠滿足大陸觸控面板廠商的成本考量,即便會有觸控靈敏度較差的問題,但只要由大陸觸控面板廠事先直接向客戶說明,在客戶能夠接受的前提下,低價化的薄膜觸控面板仍有市場。其它非日東觸控ITO薄膜廠商近來接單量也大增,主要則是因為日東與蘋果合作(推測可能在技術、****、產(chǎn)能有整體化合作)后,產(chǎn)能吃緊,進而使對外供貨的數(shù)量銳減,許多觸控面板廠商無法向日東拿到足夠的ITO薄膜,為了滿足各自客戶需求、沖刺旺季出貨量,于是趕緊轉(zhuǎn)向其他非日東觸控ITO薄膜廠商進料;旧希諙|的ITO薄膜因為品質(zhì)穩(wěn)定度高、價格是比較貴。如果非日東廠商的ITO薄膜、價格與日東沒差多少,等到日東產(chǎn)能又擴大對外釋出時。相對可能就會面臨較大的訂單流失壓力。
半導體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應用領域之一,也是對靶材的成分、籌備和性能要求高的領域。具體來講,半導體芯片的制作過程可分為硅片制造、晶圓制造和芯片封裝等三大環(huán)節(jié),其中,在晶圓制造和芯片封裝這兩個環(huán)節(jié)中都需要用到金屬濺射靶材。靶材是半導體、顯示面板等的關鍵核心材料,國內(nèi)總需求占比超30%,但可自主生產(chǎn)的市場規(guī)模不足2%。伴隨高等制造業(yè)向國內(nèi)轉(zhuǎn)移趨勢,國產(chǎn)替代空間明顯。隨著半導體技術的迅猛發(fā)展,集成化程度越來越高,單位面積單晶硅片集成器件數(shù)呈指數(shù)級增長,主流的硅片尺寸已從12英寸(300mm)逐漸邁向18英寸(450mm)或者更高,國內(nèi)ITO導電膜產(chǎn)業(yè),日本企業(yè)進入該產(chǎn)業(yè)領域較早,不僅具有上游原料優(yōu)勢。
廣州市尤特新材料有限公司基本信息
廣州市尤特新材料有限公司(以下簡稱“尤特”),成立于2003年,位于羊城廣州的北面-花都,占地總面積約3萬平方米。尤特是一家專注于時尚消費電子產(chǎn)業(yè)、節(jié)能綠色環(huán)保產(chǎn)業(yè)、新材料新技術開發(fā)和應用的重要高新技術企業(yè)。尤特以生產(chǎn)信息存儲記錄材料為起點,經(jīng)過10多年的開拓與發(fā)展,產(chǎn)業(yè)技術不斷迭代與升級,尤特的技術及應用涉獵范圍逐步擴大,其中主要包括:真空鍍膜靶材;環(huán)保(UV/水性)材料;觸控顯示材料;印刷技術及材料;信息存儲材料、導電散熱材料等。尤特一直倡導“新材料、促環(huán)保、美生活”企業(yè)使命。尤特遵循科學體系管理,先后通過《質(zhì)量管理體系》、《環(huán)境管理體系》、《職業(yè)健康與安全管理體系》認證并有效運行,產(chǎn)品符合全部環(huán)境及安全標準;獲得SONY GP綠色合作伙伴全部認證等。尤特重視產(chǎn)品研發(fā)及技術創(chuàng)新,先后與"武漢大學"、"華南理工大學"、"中南大學"等高校、研究所建立"產(chǎn)學研"合作機制,并承擔多項省市立項的科研項目,公司目前已擁有幾十項自主研發(fā)新興材料及工藝的知識產(chǎn)權,是廣州市扶持科技型要點培育上市企業(yè)。尤特先后獲得相關機構的授予多個榮譽:如“國家生產(chǎn)力促進獎、國家有名商標、廣東省守合同重信用企業(yè)、廣東省雇主責任示范企業(yè)、廣州市安全生產(chǎn)標準化達標企業(yè)、廣州市工程技術研發(fā)中心、廣州科技小巨人企業(yè)、地方納稅企業(yè)”等榮譽。尤特全體同仁秉承“創(chuàng)造價值,分享價值“的核心價值觀,借鑒以往成功管理運營經(jīng)驗,持續(xù)深挖磁控濺射鍍膜材料下游應用市場,不斷拓寬市場應用領域,做優(yōu)做強鍍膜材料產(chǎn)業(yè),將公司打造為--磁控濺射靶材行業(yè)者。
員工人數(shù):200-500人 廠房面積: 年營業(yè)額:
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公司名稱:廣州市尤特新材料有限公司
注冊資本:人民幣2000萬元/年-人民幣5000萬元/年 公司網(wǎng)址:http://UVTMCOM.glass.com.cn聯(lián)系人:楊永添
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