北京金源新材科技有限公司

主營:磁控濺射靶材,蒸發(fā)鍍膜材料,高純金屬材料

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  • 氮化鈦(TiN)靶材  99.9%
    氮化鈦(TiN)靶材 99.9%

    氮化鈦(TiN)靶材? 99.9% 純度:,3N 規(guī)格:D50.8X5mm,D76.2X6.35mm,定做 氮化鈦陶瓷靶材是一種極硬的鍍膜材料, 其熔點(diǎn)2950℃,密度 4.43g/cm?。 具有高熔點(diǎn)、高硬度、良好的化學(xué)穩(wěn)定性和金屬潤濕性小結(jié)構(gòu)材料,并具有高導(dǎo)電性和超導(dǎo)性。通常用作鈦合金、鋼、碳化物和鋁部件的表面涂層,以改善基材的表面性能。 ?

    2024-08-06 面議/片
  • 氮化硅(Si3N4)靶材 99.99%
    氮化硅(Si3N4)靶材 99.99%

    氮化硅(Si3N4)靶材 99.99% 純度:99.9% 分子式:Si3N4 分子量:140.28 CAS號:12033-89-5 密度:3.44 折射率:2.1 氮化硅是一種重要結(jié)構(gòu)陶瓷材料,它是一種超硬物質(zhì),本身具有潤滑性,并且耐磨;為原子晶體;耐熱涂層,用于火箭和原子反應(yīng)堆。 氮化硅陶瓷靶材是通過壓制和燒結(jié)而成的呈灰色固體材料, 其熔點(diǎn)1900℃,密度 3.20g/cm?。 氮化硅在微加工

    2024-08-06 面議/片
  • 碲化鉍(Bi2Te3)靶材 99.99%
    碲化鉍(Bi2Te3)靶材 99.99

    碲化鉍靶材(Bi2Te3)4N 理化性質(zhì)碲化鉍是一種灰色的粉末,分子式為Bi2Te3。熔點(diǎn):585?C. 相對分子質(zhì)量: 800.76. CAS登錄號: 1304-82-1. 密度: 7.85g/cm3 (含量不同,密度不同,以實(shí)際要求為準(zhǔn).)碲化鉍是個(gè)半導(dǎo)體材料,具有較好的導(dǎo)電性,但導(dǎo)熱性較差。碲化鉍為間接帶隙半導(dǎo)體,室溫禁帶寬度0.145eV,電子和空穴遷移率分別為0.135和4.4×10-

    2024-08-06 面議/片
  • 碲化鉬(MoTe2)靶材 99.9%
    碲化鉬(MoTe2)靶材 99.9%

    碲化鉬(MoTe2)靶材 99.9%

    2024-08-06 面議/片
  • 高純釓(Gd)靶材 99.95%
    高純釓(Gd)靶材 99.95%

    產(chǎn)品信息 名稱: 釓靶材/Gd? 純度: 99.95% 尺寸:2英寸? 可定制 品牌:?金源新材 優(yōu)勢:?純度高,導(dǎo)電性能好 工藝:熔煉 包裝:真空包裝 交貨期:3天 運(yùn)輸:順豐快遞 起訂量:1片

    2024-08-06 面議/片
  • 高純鐵(Fe)靶材 99.95%
    高純鐵(Fe)靶材 99.95%

    產(chǎn)品信息 名稱: 鐵靶材/Fe Target 純度: 99.95% 尺寸: φ50.8*3,φ76.2*3 品牌:?金源新材 優(yōu)勢:?純度高,導(dǎo)電性能好 用途: 磁控濺射鍍膜 工藝: 熔煉 包裝:真空包裝 交貨期:3天 運(yùn)輸:順豐快遞 起訂量:1片

    2024-08-06 面議/片
  • 高純鉍(Bi)靶材 99.999%
    高純鉍(Bi)靶材 99.999%

    產(chǎn)品制作工藝 ?北京金源新材新材提供的金屬靶材按照生產(chǎn)工藝分為熔煉鑄造法和粉末冶金法兩種: ? 金屬靶材如鋁、銅、鐵、鎳等均采用熔煉鑄造工藝,以高純金屬為原料,通過熔煉、鍛造、熱處理和機(jī)械加工而成;產(chǎn)品優(yōu)勢:純度高,晶粒尺寸小而均勻,表面平整。 ? 難熔金屬靶材如鎢、鉬、鉭、鈮、鉻等均采用粉末冶金工藝,以高純超細(xì)粉末為原料,通過熱等靜壓等工藝加工成坯,軋制熱處理,機(jī)加工后制成靶材;產(chǎn)品優(yōu)勢:靶材孔

    2024-08-06 面議/片
  • 高純鉺(Er)靶材 99.95%
    高純鉺(Er)靶材 99.95%

    ? ? 產(chǎn)品信息 名稱: 鉺靶材/Er Target 純度: 99.9% 尺寸: 2英寸 品牌:?金源新材 工藝:熔煉 包裝:真空包裝 交貨期:3天 運(yùn)輸:順豐快遞 起訂量:1片

    2024-08-06 面議/片
  • 高純鈷(Co)靶材 99.95%
    高純鈷(Co)靶材 99.95%

    高純鈷(Co)靶材 99.95%

    2024-08-06 面議/片
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