什么是鍍膜玻璃 中性硅酮玻璃膠成分

        一些比較關注玻璃行業(yè)的朋友可能會經(jīng)常聽人提到鍍膜玻璃。我們經(jīng)常會接觸到各種類型的玻璃材料，但由于許多人對玻璃行業(yè)的了解并不夠深入，因而圍繞著它產(chǎn)生了各種各樣的問題。為了幫助大家更深一步了解什么是鍍膜玻璃，以及中性硅酮玻璃膠的成分，解決大家的疑惑，我們編撰了這篇文章，希望能夠有所幫助。

一、什么是鍍膜玻璃

        鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜,以改變玻璃的光學性能,滿足某種特定要求.

        鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性,可分為以下幾類:熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、導電膜玻璃等.熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜,使產(chǎn)品呈豐富的色彩,對于可見光有適當?shù)耐干渎?對紅外線有較高的反射率,對紫外線有較高吸收率,因此,也稱為陽光控制玻璃,主要用于建筑和玻璃幕墻;低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系,產(chǎn)品對可見光有較高的透射率,對紅外線有很高的反射率,具有良好的隔熱性能,主要用于建筑和汽車、船舶等交通工具,由于膜層強度較差,一般都制成中空玻璃使用;導電膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化銦錫等導電薄膜,可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以及用作液晶顯示屏等;

        鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法很多,主要有真空磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學氣相沉積法以及溶膠—凝膠法等.磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術可以設計制造多層復雜膜系,可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色,膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好,是目前生產(chǎn)和使用較多的產(chǎn)品之一.真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的品種和質量與磁控濺射鍍膜玻璃相比均存在一定差距,已逐步被真空濺射法取代.化學氣相沉積法是在浮法玻璃生產(chǎn)線上通入反應氣體在灼熱的玻璃表面分解,均勻地沉積在玻璃表面形成鍍膜玻璃.該方法的特點是設備投入少、易調(diào)控,產(chǎn)品成本低、化學穩(wěn)定性好,可進行熱加工,是目前更有發(fā)展前途的生產(chǎn)方法之一.溶膠—凝膠法生產(chǎn)鍍膜玻璃工藝簡單,穩(wěn)定性也好,不足之處是產(chǎn)品光透射比太高,裝飾性較差.

二、中性硅酮玻璃膠成分

        1、 底涂液常用丙酮、丁酮或丙醇.作用去除鋁合金表面的油污.

        2、 硅酮結構膠

        主要成份 農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系羥基硅酮、農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系甲基硅酮 、甲基硅烷、氣象二氧化硅 、碳酸鈣 、二丁基二月硅酸錫、氨基硅烷.

        產(chǎn)品無腐蝕,固化后為為硅酮橡膠.

        主要作用 玻璃與鋁合金粘接

        3、 硅酮耐候密封膠

        主要成份 農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系羥基硅酮、農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系甲基硅酮 、甲基硅烷、氣象二氧化硅 、碳酸鈣 、二丁基二月硅酸錫、氨基硅烷.中性固化,對金屬、鍍膜玻璃、混凝土、陶瓷、大理石、花崗巖等建筑材料無腐蝕性,具有優(yōu)越的耐候性能.主要作用 玻璃、石材、鋁板的接縫.

相關概念

玻璃

        玻璃是非晶無機非金屬材料，一般是用多種無機礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長石、純堿等)為主要原料，另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等，主要成分是硅酸鹽復鹽，是一種無規(guī)則結構的非晶態(tài)固體。廣泛應用于建筑物，用來隔風透光，屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類而顯現(xiàn)出顏色的有色玻璃，和通過物理或者化學的方法制得的鋼化玻璃等。有時把一些透明的塑料（如聚甲基丙烯酸甲酯）也稱作農(nóng)業(yè)生產(chǎn)體系玻璃。

鍍膜

        鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻璃），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%�，F(xiàn)代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜，單層增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

磁控濺射

        磁控濺射（英語：magnetron sputtering）是在濺射的基礎上，運用靶板材料自身的電場與磁場的相互電磁交互作用，在靶板附近添加磁場，使得二次電子電離出更多的氬離子，增加濺射效率。磁控濺射分為平衡式與不平衡式。這種技術應用于材料鍍膜。其中高功率脈沖磁控濺射（high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)或high-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)）近來使用較為普遍。

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