化合物靶材 氧化物靶材 硫化物靶材 氮化物靶材 硫化物靶材 硒化物靶材 ITO靶材 氧化鋅靶材 二氧化鈦靶材 氧化鎂靶材

北京眾誠新材科技專業(yè)從事高純金屬材料生產(chǎn)加工，采用區(qū)域熔煉法，真空熔煉法，熱等靜壓燒結(jié)，電解精煉法提純等工藝，高純金屬純度達(dá)到99.9%-99.999%，產(chǎn)品純度高，質(zhì)量穩(wěn)定。

高純單質(zhì)金屬濺射靶材（3N-5N）：鋁靶Al、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、石墨靶C、硅靶Si、鉭靶Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo等高純單質(zhì)金屬濺射靶材。高純陶瓷化合物濺射靶材（3N-4N）：ITO靶、AZO靶、IGZO靶、氧化鎂靶MGO、氧化釔靶Y2O3、氧化鐵靶Fe2O3、氧化鎳靶Ni2O3、氧化鉻靶Cr2O3、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5等高密度陶瓷濺射靶材。備注：眾誠新材生產(chǎn)的陶瓷靶材采用先進(jìn)的陶瓷生產(chǎn)工藝；惰性氣體保護(hù)熱等靜壓燒結(jié)技術(shù)，相對密度大于95-99％，可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。

多元合金靶靶材（3N-4N）：鎳釩合金靶Ni-V，鎳鉻合金靶Ni-Cr，鈦鋁合金靶Ti-Al，硅鋁合金靶Si-Al，銅銦合金靶Cu-In，銅鎵合金靶Cu-Ga，銅銦鎵合金靶Cu-In–Ga，銅銦鎵硒靶Cu-In–Ga-Se，鋅鋁合金靶Zn-Al，鎢鈦W-Ti，鐵鈷Fe-Co等高純合金濺射靶材。備注：眾誠新材生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9％），純度高（99.9-99.99％），可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務(wù)。

高純單質(zhì)熔煉鍍膜材料（純度3N-5N，顆粒尺寸3*3mm、6*6mm、2*5mm等，絲材φ1.0mm、φ0.5mm等）：金Au、銀Ag、鉑Pt、鈀Pd、鋁Al、鉻Cr、銅Cu、鎳Ni、鋯Zr、鉻Cr、鈦Ti、鈷Co、錫Sn、釩V、銻Sb、銦In、硼B(yǎng)、鎢W、錳Mn、鉍Bi、硅Si、鉭Ta、鋅Zn、鎂Mg、鈮Nb、鉬Mo等高純單質(zhì)金屬顆粒。

陶瓷化合物蒸發(fā)顆粒（純度3N-4N，尺寸1-3mm）：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化鈣、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩、氟化鎂、氟化鈣、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鋇、硫化物、硫化鋅、硫化鈣、硫化銻等陶瓷蒸發(fā)顆粒。

北京眾誠新材科技有限公司是一家專業(yè)從事高純金屬材料銷售的公司，經(jīng)營產(chǎn)品包括：濺射靶材、蒸鍍材料、熔煉金屬等高純材料。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于光學(xué)鍍膜、平板顯示（LCD、OLED）、集成電路、LOW-E玻璃、裝飾鍍膜、工具鍍膜、光伏太陽能等領(lǐng)域。主要用戶群體為高�？蒲袑�(shí)驗(yàn)室、薄膜太陽能工業(yè)企業(yè)、平板顯示器工業(yè)企業(yè)、表面工程鍍膜企業(yè)等。眾誠新材秉承“用戶至上，品質(zhì)第一”的宗旨，不斷加強(qiáng)企業(yè)創(chuàng)新管理，加快品質(zhì)和科技創(chuàng)新，用先進(jìn)的行業(yè)工藝，完善的品質(zhì)體系為用戶提供高品質(zhì)鍍膜材料。公司以”用戶至上，品質(zhì)第一“為企業(yè)宗旨，自成立以來重信用、守合同、保證產(chǎn)品質(zhì)量，獲得所有客戶贊同認(rèn)可，公司將遵循“務(wù)實(shí)，創(chuàng)新，高效”的理念，抓住機(jī)遇，迎接挑戰(zhàn)，不斷開拓、創(chuàng)新、完善自己。公司憑借優(yōu)秀的產(chǎn)品質(zhì)量、真實(shí)的產(chǎn)品價(jià)格和良好的企業(yè)信譽(yù)服務(wù)用戶，以用戶為本，用全品類的產(chǎn)品滿足用戶不同的需求，堅(jiān)持品牌求市場、質(zhì)量求生存、創(chuàng)新求發(fā)展、服務(wù)求效益的經(jīng)營理念，竭誠為用戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和完善的服務(wù)！

聯(lián)系人：蔣先生
電話：-010-53320957-
移動電話：18611302232
傳真：86---
地址：城西路87號新龍大廈A座
網(wǎng)址：http://bjzcxc.glass.com.cn

化合物靶材 氧化物靶材 硫化物靶材 氮化物靶材 硫化物靶材 硒化物靶材 ITO靶材 氧化鋅靶材 二氧化鈦靶材 氧化鎂靶材

熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜，使產(chǎn)品呈豐富的色彩，對于可見光有適當(dāng)?shù)耐干渎�，對紅外線有較高的反射率，對紫外線有較高吸收率，因此，也稱為陽光控制玻璃，主要用于建筑和玻璃幕墻；低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系，產(chǎn)品對可見光有較高的透射率，對紅外線有很高的反射率，具有良好的隔熱性能，主要用于建筑和汽車、船舶等交通工具，由于膜層強(qiáng)度較差，一般都制成中空玻璃使用；導(dǎo)電膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化銦錫等導(dǎo)電薄膜，可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以及用作液晶顯示屏等；鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法很多，主要有真空磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學(xué)氣相沉積法以及溶膠—凝膠法等。磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術(shù)可以設(shè)計(jì)制造多層復(fù)雜膜系，可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色，膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好，是目前生產(chǎn)和使用最多的產(chǎn)品之一。真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的品種和質(zhì)量與磁控濺射鍍膜玻璃相比均存在一定差距，已逐步被真空濺射法取代�；瘜W(xué)氣相沉積法是在浮法玻璃生產(chǎn)線上通入反應(yīng)氣體在灼熱的玻璃表面分解，均勻地沉積在玻璃表面形成鍍膜玻璃。該方法的特點(diǎn)是設(shè)備投入少、易調(diào)控，產(chǎn)品成本低、化學(xué)穩(wěn)定性好，可進(jìn)行熱加工，是目前最有發(fā)展前途的生產(chǎn)方法之一。溶膠—凝膠法生產(chǎn)鍍膜玻璃工藝簡單，穩(wěn)定性也好，不足之處是產(chǎn)品光透射比太高，裝飾性較差。