供應(yīng)高純真空濺射靶材

深圳市天源表面技術(shù)開發(fā)有限公司（簡(jiǎn)稱天源）是一家表面技術(shù)與鍍膜材料研發(fā)企業(yè):天源以表面工程、鍍膜材料和新能源開發(fā)為其研究領(lǐng)域，產(chǎn)品廣泛服務(wù)于各個(gè)高校及高新技術(shù)領(lǐng)域的企業(yè)，公司通過多年來基礎(chǔ)和應(yīng)用研究以及新產(chǎn)品開發(fā)，已形成了自己?jiǎn)为?dú)知識(shí)產(chǎn)權(quán)的技術(shù)和系列產(chǎn)品，同時(shí)公司還擁有一支高素質(zhì)的研發(fā)、生產(chǎn)、管理和銷售隊(duì)伍，與國內(nèi)外多所院校、研究所、企業(yè)有合作關(guān)系。公司現(xiàn)主要從事表面處理、真空鍍膜材料及高技術(shù)產(chǎn)品研發(fā)，公司主要經(jīng)營范圍有：高純真空鍍膜材料、高純金屬、合金與稀土氧化物試劑、效率高焊接材料、無機(jī)非金屬材料以及提供真空離子鍍膜與塑膠制品表面處理加工服務(wù)。

天源公司堅(jiān)持以：“可靠的質(zhì)量，完善的售后服務(wù)，崇高的信譽(yù)”為宗旨，憑著過硬的產(chǎn)品，合理的價(jià)格以及多年的創(chuàng)業(yè)歷程，公司現(xiàn)已發(fā)展成為具有一定規(guī)模的有經(jīng)驗(yàn)性真空鍍膜材料、稀土材料、金屬氧化物、化工原料供應(yīng)商，并且在湖南、深圳等地設(shè)有加工工廠，加工檢驗(yàn)設(shè)備齊全，其中有：冶煉、熱壓、燒結(jié)、鍍膜等設(shè)備，公司秉乘著：“誠信為本、信譽(yù)至上”經(jīng)營理念，真誠希望成為您長期的合作商，并熱忱歡迎新老客戶的光臨，希望以我們可靠的質(zhì)量、的服務(wù)、和有競(jìng)爭(zhēng)力的價(jià)格與您共同開拓市場(chǎng)，共創(chuàng)輝煌！

公司主要經(jīng)營產(chǎn)品：

一、真空鍍膜材料

1．高純真空濺射靶材（99.9％——99.999％）

高純金屬靶材：鋯靶Zr、鉻靶Cr、鈦靶Ti、鋁靶Al、錫靶Sn、釩靶V、銻靶Sb、銦靶、硼靶B、鎢靶W、錳靶Mn、鉍靶Bi、銅靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、鉭靶 Ta、鋅靶Zn、鎂靶Mg、鈮靶Nb、鉬靶Mo、鈷靶Co、鐵靶Fe、鍺靶Ge、鉿靶Hf、鉛靶Pb、鎳靶Ni、銀靶Ag、硒靶Se、鈹靶Be、碲靶Te、不銹鋼靶材S.S等……

多元合金靶材： 鈦鋁靶Ti-Al、鈦鋯靶Ti-Zr、鈦硅靶Ti-Si、鈦鎳靶Ti-Ni、鎳鉻靶Ni-Gr、鎳鋁靶Ni-Al、鎳釩靶Ni-V、鎳鐵靶Ni-Fe、鐵鈷靶Fe-Co、鋁硅靶Al-Si、鈦硅靶Ti-Si、鉻硅靶Cr-Si、鋅鋁靶Zn-Al、鈦鋅靶材Ti-Zn、鋁硅銅靶Al-Si-Cu等……

陶瓷濺射靶材：ITO靶、單晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化鈦靶TiO2、氧化鋯靶ZrO2、二硼化鈦靶TiB2、氧化鎂靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二釔靶Y2O3、五氧化二釩靶V2O5、氧化鋅靶ZnO、硫化鋅靶ZnS、硫化鉬靶MoS、硫化鎢靶WS、氧化鋅鋁靶ZAO、氧化鋁靶Al2O3、鈦酸鍶靶SrTiO3、五氧化二鉭靶Ta2O5、五氧化二鈮靶Nb2O5、氧化鋅鎵靶ZGO、氧化鋅硼靶ZBO、砷化鎵靶GaAs，磷化鎵靶GaP，硒化鋅靶、錳酸鋰靶、鎳鈷酸鋰靶、鉭酸鋰靶，鈮酸鋰靶、等…

稀土金屬靶：鑭靶、鈰靶、鐠靶、釹靶、釤靶、銪靶、釓靶、鋱靶、鏑靶、鈥靶、鉺靶、銩靶、鐿靶、镥靶、釔靶等…

稀土氧化物靶：氧化鑭靶、氧化鈰靶、氧化鐠靶、氧化釤靶、氧化銪靶、氧化釹靶、氧化釓靶、氧化鋱靶、氧化鏑靶、氧化鈥靶、氧化鉺靶、氧化銩靶、氧化鐿靶、氧化镥靶

金屬膜電阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu濺射靶材：

金屬膜電阻器用靶材包括高阻系列（ZYG）、中阻系列（ZYZ）和低阻系列（ZYC）、超低阻系列（ZYCD）。

2．高純光學(xué)鍍膜材料（99.99％——99.999％）

氧化物：一氧化硅、二氧化硅、一氧化鈦、二氧化鈦、三氧化二鈦、五氧化三鈦、二氧化鋯、二氧化鉿、二氧化鈰、二鈦酸鐠、三氧化鎢、五氧化二鉭、五氧化二鈮、三氧化二鈧、三氧化二鋁、三氧化二銦、氧化鐿、氧化鋅、氧化鎂、氧化釓、氧化釤、氧化釹、氧化鈣、氧化鐠、氧化鉍、氧化鉻、氧化鎳、氧化銅、氧化鐵、氧化釩等…

氟化物：氟化鎂、氟化鈣、氟化釹、氟化鑭、氟化鐿、氟化釔、氟化鉺、氟化釤、氟化鏑、氟化鈰、氟化鋇、氟化鍶、氟化鉀、氟化鈉等…

硫化物：硫化鋅、硫化鉬、硫化鈣、硫化銻、硫化鐵、硫化鈉等…

天源公司自主研發(fā)的真空濺射靶材、光學(xué)鍍膜材料廣泛應(yīng)用于裝飾鍍膜、工具鍍膜、光學(xué)鍍膜及鍍膜玻璃工業(yè)與平板顯視行業(yè)。生產(chǎn)的濺射靶材成分設(shè)計(jì)合理、表面平整光滑，具有良好的導(dǎo)電性，濺射時(shí)工作電流穩(wěn)定，高阻靶材的底板焊接牢固適用，采用該靶材制作的電阻器，具有阻值集中、穩(wěn)定性好，有良好的耐熱、耐磨和舒緩反應(yīng)性能，電阻溫度系數(shù)小等特點(diǎn)。其靶材的制備都是根據(jù)其材料特性來加工的：分熱壓燒結(jié)工藝法和真空熔鑄工藝法，產(chǎn)品均具有純度高，微觀籌備及利用率高等特點(diǎn)，靶型有：平面矩形，管形，圓盤形，環(huán)形，片狀，粉狀等，規(guī)格和成分還可以根據(jù)用戶的具體要求來定做。